Perfil

Daniel Pastor Abellán

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Grupos

Photonics Research Labs (PRL)

Bio

Mi carrera investigadora en tecnologías fotónicas comenzó en 1993 cuando me incorporé al Grupo de Comunicación Óptica como investigadora y al Departamento de Comunicación de la Universitat Politècnica de València (UPV) como profesor ayudante y estudiante de doctorado. De 1994 a 1998 fui profesor en la Facultad de Ingeniería de Telecomunicación y me convertí en profesor Tutular (TU) en 1999. Obtuve un doctorado en Ingeniería Eléctrica y Telecomunicaciones por la Universitat Politècnica de València en 1996. El tema de mi tesis fue “Redes de Difracción sobre Fibra Óptica para Procesado de Señales Fotónicas ”. Soy coautor de más de 225 artículos en revistas y conferencias internacionales en los campos de las Redes de Difracción de Bragg, fotónica de microondas, sistemas WDM y SCM, sensores de fibra óptica, dispositivos integrados de nitruro de silicio para telecomunicaciones, y técnicas avanzadas de caracterización como la Reflectrometría en el Dominio de la Frecuencia Óptica (OFDR) He sido IP en 3 proyectos nacionales, relacionados con Redes ópticas de Metro y Acceso (TEL1999-0437 del 31/12/99 al 31/12/02), y redes y dispositivos de Acceso Múltiple por División de Código Óptico ( OCDMA), (TEC2004-04754-01 / TCM del 13/12/04 al 13/12/07 y TEC2009-12169 del 01/01/2010 al 31/6/2013), y co-IP en 3 proyectos nacionales relacionados con Tecnología Fotónica Integrada, Filtros Fotónicos Integrados para Procesamiento de Señal (TEC2013-42332-P), Espectrómetros Integrados de Nitruro de Silicio (TEC2016-80385-P) y Plataforma Hibrida Nitruro de Silicio para Circuitos Ópticos Integrados (PID2019-110877GB-I00). También he sido líder de diferentes paquetes de trabajo en proyectos europeos como IST-LABELS, IST-GLAMOROUS. En los últimos dos años he participado en un contrato de investigación y desarrollo con Huawei Tech. Ltc, y un proyecto europeo MSCA-ITN-2018-ETN / Nº 812818. Destacar la actividad en el desarrollo de una plataforma tecnológica en la UPV con capacidad para fabricar sustratos y componentes ópticos pasivos a base de Nitruro de Silicio / Sílice con el siguiente financiación de infraestructuras: Polo tecnológico UPVfab. GVA / IDIFEDER / 2020/028 (2020-2021), MICRO-FABRICACIÓN PARA FOTÓNICA, ELECTRÓNICA Y QUÍMICA ”Generalitat Valenciana (2018-2020) GVA / IDIFEDER18 / 41
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